삼성전자 전 간부, 해외에 법인 설립 뒤 삼성 인력 200여명 빼내
'두배 이상 연봉' 등 제시…"삼성반도체 자료 적극 수집·사용" 지시

(수원=연합뉴스) 이영주 기자 = "삼성전자 반도체 자료 있으면 적극적으로 수집해 사용하라."

삼성전자 상무 출신이자 국내 반도체 분야 최고 전문가인 A(65) 씨는 2015년 7월 싱가포르에 반도체 제조업체 B사를 설립한다.
 

삼성전자 반도체 핵심기술 유출 배경
[수원지검 제공. 재판매 및 DB 금지]

이후 2018년 대만 C 회사로부터 약 8조원의 투자 약정을 받고, 2020년엔 청두시로부터 4천600억원의 대규모 투자를 유치한다.

A씨는 이 같은 막대한 자본력을 기반으로 삼성전자 등 국내 굴지의 반도체 기업의 핵심 인력 200여명을 B사로 영입했다.

이들에게 기존 연봉의 최소 두배 이상의 연봉을 제시했고, 가족들이 중국으로 이주 시 자녀들의 국제학교 비용 등 높은 수준의 복지도 지원한 것으로 알려졌다.

검찰은 A씨가 이들 반도체 핵심 인력을 동원해 중국 지방정부의 투자로 삼성전자 반도체 공장을 그대로 본뜬 복제공장을 설립하려고 한 것으로 보고 있다.

2018년경 A씨가 중국 시안에 소재한 삼성전자 시안 공장에서 불과 1.5㎞ 떨어진 곳에 복제 공장을 건설하기 위한 설계 과정에서 B사 임직원들에게 "삼성전자 반도체 설계자료를 사용하라"고 적극적으로 지시했다는 게 검찰의 판단이다.

이 같은 지시를 받은 삼성전자 출신인 B사 팀장 D씨는, 2012년 삼성전자에서 퇴사할 때 불법으로 소지한 '반도체 공장 BED(Basic Engineering Data·불순물이 존재하지 않는 최적의 환경을 만들기 위한 기술)' 자료를 B사가 활용할 수 있게 제공한 것으로 조사됐다.

반도체 공장 설계 도면은 삼성전자 시안 반도체 공장의 협력사인 감리회사 직원 E씨가 유출해 A씨가 활용한 것으로 확인됐다.

이 밖에 반도체 생산을 위한 핵심 8대 공정의 배치, 면적 등 정보가 기재된 공정 배치도의 유출 경위는 현재 추가 수사 중이다.
 

삼성전자 반도체 핵심기술 유출 배경
수원지검 제공. 재판매 및 DB금지

A씨 등이 불법 유출·부정 취득 및 부정 사용한 BED와 공정 배치도는 '국가핵심기술 지정 등에 관한 고시'로 지정된 반도체 분야 11개 기술 중 '30나노 이하급 D램 및 낸드플래시를 제조하는 반도체의 공정 관련 기술'에 해당한다.

다행히 A씨 등이 시도한 삼성전자 반도체 복제공장이 중국에 설립되지 않은 것으로 파악되지만, 설계도면 등 핵심기술이 해외로 유출된 사실은 확인됐다.

검찰이 추산한 삼성전자 피해액은 ▲ BED 기술 개발 비용 최소 124억원 ▲ 최적의 공정배치도 도출 비용 최소 1천360억원 ▲ 설계도면 작성 비용 최소 1천428억원 등 최소 3천억원이다.

검찰은 삼성전자가 30년 넘는 기간 시행착오와 연구개발을 통해 얻은 영업기밀인 만큼 최대 수조 원 상당의 가치가 있다고 보고 있다.

이 사건을 수사한 수원지검 방위사업·산업기술범죄수사부(박진성 부장검사)는 12일 A씨를 산업기술보호법 위반·부정경쟁방지법 위반(영업비밀국외누설등) 등 혐의로 구속 기소하고, D씨 등 공범 6명을 부정경쟁방지법 위반(영업비밀국외누설등) 등 혐의로 불구속 기소 했다.
 

[그래픽] 삼성전자 반도체 기술 해외 유출 개요
(서울=연합뉴스) 김민지 기자 = minfo@yna.co.kr
트위터 @yonhap_graphics 페이스북 tuney.kr/LeYN1

young86@yna.co.kr 

제보는 카카오톡 okjebo<저작권자(c) 연합뉴스, 무단 전재-재배포 금지>